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CMP 웨이퍼 연마

수리야데바라 바부 저 | 씨아이알 | 2021년 04월

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ISBN : 9791156109471 / 628쪽 188 x 257 (㎜)

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책 소개

출판사 리뷰

이 책은 화학-기계적 평탄화(CMP) 가공 분야의 현업에 종사하는 엔지니어들이 화학과 기계적인 관점뿐만 아니라 소재나 전기적인 관점에서 연마가공의 메커니즘을 이해할 수 있는 소중한 기회를 제공해준다. 현업에서 발생하는 다양한 문제들을 현상적인 측면에서만 다루지 않고 그 배후에 존재하는 물리적-화학적인 메커니즘을 이해하고, 체계적으로 해결방안을 찾아내는 과정에서 이 책이 소중한 자료로 활용될 수 있을 것이다.

저자 소개

  • 저자 : 수리야데바라 바부
저자 : 수리야데바라 바부
미국 뉴욕주 포츠담 클랙슨 대학교

역자 : 장인배
서울대학교 기계설계학과 학사, 석사, 박사
현 강원대학교 메카트로닉스공학전공 교수
저서 및 역서
『표준기계설계학』 (동명사, 2010)
『전기전자회로실험』 (동명사, 2011)
『고성능 메카트로닉스의 설계』 (동명사, 2015)
『포토마스크 기술』 (씨아이알, 2016)
『정확한 구속_기구학적 원리를 이용한 기계설계』 (씨아이알, 2016)
『광학기구 설계』 (씨아이알, 2017)
『유연 메커니즘_플랙셔 힌지의 설계』 (씨아이알, 2018)
『3차원 반도체』 (씨아이알, 2018)
『유기발광다이오드 디스플레이와 조명』 (씨아이알, 2018)
『웨이퍼레벨 패키징』 (씨아이알, 2019)
『정밀공학』 (씨아이알, 2019)
『웨이퍼 세정기술』 (씨아이알, 2020)

목차

CHAPTER 1 유전체에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 물리학적 메커니즘

CHAPTER 2 22[nm] 후공정과 그 이후를 준비하는 구리소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 3 금속박막에 대한 화학-기계적 평탄화 가공을 위한 전기화학적 기법과 적용사례

CHAPTER 4 초저유전체에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 5 고이동도 채널소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 6 화학-기계적 평탄화 가공에 대한 다중스케일 모델링

CHAPTER 7 탄화규소 박막의 연마가공

CHAPTER 8 질화갈륨에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 물리화학적 메커니즘

CHAPTER 9 연마제를 사용하지 않거나 극소량만을 사용하는 화학-기계적 연마가공

CHAPTER 10 평탄화 공정의 환경적 측면

CHAPTER 11 화학-기계적 평탄화 가공용 슬러리의 특성과 제조방법

CHAPTER 12 화학-기계적 평탄화 가공의 품질을 평가하기 위한 화학계측방법

CHAPTER 13 다이아몬드 디스크를 사용한 패드 컨디셔닝

CHAPTER 14 산화물에 대한 화학-기계적 연마가공 중 FTIR 분광법을 사용한 표면분석

CHAPTER 15 새로운 화학-기계적 평탄화 가공용 슬러리 공급 시스템

CHAPTER 16 화학-기계적 연마가공의 제거율 균일성과 캐리어인자의 역할

CHAPTER 17 결함분석, 결함완화 및 저감

CHAPTER 18 무어의 법칙을 초월하는 디바이스에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 적용

CHAPTER 19 상변화 소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

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